取消
清空記錄
歷史記錄
清空記錄
歷史記錄
目前拋光玻璃鏡片所使用的拋光粉以氧化鈰(CeO2)為主,拋光液調(diào)配的比例依鏡片拋光時(shí)期不同而有所不同,一般拋光初期與和拋光模合模時(shí)使用濃度較高的拋光液,鏡片表面光亮后,則改用濃度較稀的拋光液,以避免鏡面產(chǎn)生橘皮現(xiàn)象 (鏡片表面霧化)。
拋光與研磨所用的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)相同,除了拋光的工具與工作液體不一樣外,拋光時(shí)所需環(huán)境條件亦較研磨時(shí)嚴(yán)苛。一般拋光時(shí)要注意的事項(xiàng)如下:
1. 拋光瀝青的表面與拋光液中不可有雜質(zhì),不然會(huì)造成鏡面刮傷。
2. 拋光瀝青表面要與鏡片表面吻合,否則拋光時(shí)會(huì)產(chǎn)生跳動(dòng),因而咬持拋光粉而刮傷鏡片表面。
3. 拋光前必須確定鏡片表面是否有研磨后所留下的刮傷或刺孔。
4. 拋光工具的大小與材質(zhì)是否適當(dāng)。
5. 瀝青的軟硬度與厚度是否適當(dāng)。
拋光的過(guò)程中必須隨時(shí)注意鏡片表面的狀況及精度檢查。透鏡表面瑕疵的檢查,因?yàn)闄z測(cè)的過(guò)程是憑個(gè)人視覺(jué)及方法來(lái)判斷,所以檢驗(yàn)者應(yīng)對(duì)刮傷及砂孔的規(guī)范有深刻的認(rèn)知,要經(jīng)常比對(duì)刮傷與砂孔的標(biāo)準(zhǔn)樣版,以確保檢驗(yàn)的正確性。表面精度可直接用干涉儀來(lái)量測(cè),以本中心為例,鏡片的表面精度要求在 λ/4 以下者 (λ 為檢測(cè)光源的波長(zhǎng)),利用標(biāo)準(zhǔn)片當(dāng)作參考面搭配單色光源來(lái)檢測(cè)鏡片的面精度,其檢測(cè)的方式如圖一所示。若精度要求高于 λ/4,則需使用 Zygo 干涉儀搭配標(biāo)準(zhǔn)鏡頭來(lái)檢測(cè)鏡片的面精度及表面質(zhì)量。 透鏡經(jīng)成形、研磨及拋光后,其光軸往往會(huì)偏離其幾何中心軸 (光軸為兩曲率中心之聯(lián)機(jī)),此一現(xiàn)象稱(chēng)為偏心,其中又以成形時(shí)所產(chǎn)生的偏心為嚴(yán)重。理論上透鏡的偏心可分為兩種誤差型式,如圖二所示。一種為光軸與幾何中心軸平行,此種型式稱(chēng)為偏心 (decenter),另一種為光軸與幾何中心軸交叉,此種型式稱(chēng)為傾斜 (tilt)。而實(shí)際上透鏡的偏心通常是這兩種誤差的組合。
本機(jī)主要適用于手機(jī)玻璃片、電腦觸摸屏、超薄較大尺寸石英晶體片、單晶多晶硅、鍺片、光學(xué)玻璃如:液晶顯示觸摸屏ITO導(dǎo)電玻璃、手機(jī)五金零配件、 LCD光學(xué)鏡片、藍(lán)寶石、陶瓷基片、投影儀玻璃平臺(tái)、活塞環(huán)、閥片、硬質(zhì)合金密封環(huán)及各種泵用機(jī)械密封件(碳化硅、碳化鎢、石墨)、高速鋼及鎢鋼刀片、鉬片靶材等各種片狀金屬、非金屬材料的雙面研磨或拋光,且加工精度高,生產(chǎn)效率高,操作簡(jiǎn)單方便。
手機(jī)玻璃拋光機(jī)參數(shù):
型號(hào) | 手機(jī)玻璃拋光機(jī)610XQ |
研磨盤(pán)規(guī)格 | φ610×φ160×15t |
比較大工件尺寸 | φ240mm |
陶瓷修正輪規(guī)格 | 氣缸自帶 |
研磨盤(pán)轉(zhuǎn)速 | 0--94rpm |
定時(shí)范圍 | 99分59秒 |
主電機(jī)功率 | 3.7kw 380V 3相 |
修面電機(jī)功率 | 0.2kw.380V3相 |
修面速度 | 0---250mm/分鐘 |
外形尺寸mm | 1350*1850*2100 |
重量 | 1450kg |